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*:照度儀

2012年05月16日 09:28:37人氣:625來源:浙江安徽山東-上海將來實驗設備有限公司

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關 鍵 詞照度儀,高真空性能,觸摸屏控制,將來實驗
【資料簡介】

照度儀

如本產品參數不符合您要求,您可,由我們銷售工程師為您推薦符合您要求的產品,請您放心購買! 銷售部:

儀器簡介:

Q150T系列模塊化鍍膜系統_專為SEMTEM及薄膜應用設計的高真空濺射和蒸發鍍膜儀

Q150T
系列:渦輪泵高真空鍍膜儀,可進行高性能精細顆粒鍍膜,適合場發射電鏡制樣應用以及制作無定形碳覆形膜及TEM柵網支持膜。基于內部安裝的渦輪分子泵抽真空平臺,Q150T具有三種版本/型號的鍍膜儀:濺射、蒸發鍍碳和濺射/蒸鍍。在運用科技整體成型的機箱上,設有彩色觸摸屏,可允許多用戶輸入和貯存鍍膜方案。在同一個易使用系統中,根據所選擇的配置,Q150T可以是一臺水準的離子濺射鍍膜儀用于高分辨掃描電鏡(SEM)制樣,也可以是一臺適合SEM或透射電鏡(TEM)應用的蒸發鍍碳儀,或者是一臺兼具濺射和蒸鍍兩功能的一體化鍍膜儀。Q150T具有快速濺射易氧化和不氧化金屬靶材的寬可選范圍的能力,使其也成為許多金屬薄膜研究及電極的應用等材料科學領域的一個理想鍍膜平臺。
 
高真空性能
Q150T
裝在一個堅固的特制整體成型機殼中,它容納了所有工作部件,包括空氣冷卻的渦輪分子泵。自動進氣控制保證了濺射期間*的真空條件。真空腔室帶有防爆安全罩。Q150T含有的真空閉鎖允許在不用設備時維持腔室真空,從而改善真空性能。


Q150T
系列三種型號

Q150TS
:高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀,可濺射易氧化及不氧化金屬(貴金屬)。可選各種濺射靶材,包括常用于場發射電鏡的銥和鉻。

Q150TE
:高真空熱蒸發鍍碳儀,可制作高穩定性的碳膜和表面覆形膜,對透射電鏡(TEM)的應用非常理想。

Q150TES
:集合了濺射和蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的鍍膜系統,沉積鍍膜頭可在數秒內快速更換,智能邏輯系統自動識別出所裝的鍍膜頭類型,并顯示相應的操作設置。

上述每個型號還可選配一系列可選附件,如:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。


觸摸屏控制

Q150T
的操作核心為簡單的觸摸屏,即使zui不熟練的或偶而使用的操作者,儀器也能使其快速鍵入和貯存自己的處理數據。程序中已貯存了各種典型濺射及蒸發鍍膜的參數資料,以便提供進一步的易操作幫助。


鍍膜頭選項

具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭:

濺射頭,可使用易氧化及非氧化金屬兩大類寬范圍靶材;并可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料(僅為TSTES版本)

碳棒蒸發頭

碳絲蒸發頭

金屬蒸發/光闌清潔頭,包括向上蒸發或向下蒸發兩種蒸發方式(僅為TETES版本)


樣品臺選項

Q150T
具有各種樣品臺以滿足大部分的應用。所有的樣品臺更換容易,drop-in式樣(無需螺釘)并且高度可調(除旋轉行星臺)。標準配置為旋轉臺,可選:

可預設傾斜角度的旋轉臺

可變角度旋轉行星臺

用于
4”晶圓的平面旋轉臺
用于顯微鏡載玻片的樣品臺


其它選項

用于高樣品的加高腔室

膜厚監測附件(FTM

用于測量低和高真空的全范圍真空計


Q150T
系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、*的鍍膜質量和對熟手/新手都很理想的用戶界面,讓用戶真正領略的鍍膜品質!



技術參數:

工作腔室:150mm內徑 x 127mm
觸摸屏全圖像用戶界面

樣品臺:標配旋轉臺

真空系統:

渦輪分子泵:帶有空氣冷卻的渦輪分子泵

旋轉機械泵:雙級旋轉機械泵

濺射電流:0-150mA;可預設膜厚(需FTM選項)或使用內置定時器

濺射時間:zui長60分鐘

碳蒸發:穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發,確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。

金屬蒸發/光闌清潔頭:用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。

尺寸和重量:儀器機箱:
585mmx 470mm x 410mm總高: 650mm
儀器總重量:
33.4Kg



主要特點:

金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備:一體化設計,節約空間
精細顆粒濺射:高分辨率場發射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細鍍膜應用
渦輪分子泵高真空系統:允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用,也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺
全自動觸摸屏控制:快速數據輸入,簡單操作
可儲存多個客戶自定義鍍膜方案:對多用戶實驗室十分理想
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制
精細的厚度控制:使用膜厚監控選項
● “
智能式系統識別:自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
高真空碳蒸鍍:對SEMTEM鍍碳膜應用非常理想
蒸發電流波形控制
● Drop-in
落入式快換樣品臺(標配旋轉臺)
真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態,改善后續真空效果,或在真空條件下保存樣品
鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘(材料科研領域的應用)
人體工程學設計的整體成型機殼:易維護和易拆裝
帶有本地FTP服務器連接的以太網端口:簡單的程序更新
設有功率因素補償,有效利用電能,降低運行成本
符合當前電器法規(CE認證)

產品優惠請登錄:

浙江安徽山東-上海將來實驗設備有限公司作者

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