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德國 SUSS半自動光刻機MA/BA4 Pro

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號MA/BA4

品       牌

廠商性質其他

所  在  地武漢市

聯(lián)系方式:王先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2024-04-26 15:32:20瀏覽次數:81次

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聯(lián)系人:王先生

產品簡介

用于工業(yè)研究和生產領域的功能強大的光刻及鍵合對準機MA/BA4代專業(yè)版系列是蘇斯公司半自動光刻機的一個多面設備平臺,應用很廣泛

詳細介紹

用于工業(yè)研究和生產領域的功能強大的光刻及鍵合對準機

MA/BA 4 代專業(yè)版系列是蘇斯公司半自動光刻機的一個多面設備平臺,應用很廣泛。支持最小尺寸達 150 毫米或 200 毫米的基板。它的工具和選項眾多,工藝參數可調整,因此具有的靈活性,既可用于科研、開發(fā),也可用于生產工藝。MA/BA 4 代專業(yè)版的設計理念成熟,技術,是開發(fā)未來技術的理想設備。它為微機電系統(tǒng)、高級封裝、3D 集成、化合物半導體領域樹立了新的。


MA/BA 4 代專業(yè)版系列可以便捷地集成到生產環(huán)境中,并且與蘇斯公司的自動化設備兼容。因此,可便捷地實施從研發(fā)到生產的工藝轉化。該系列提供的、高度自動化的功能(工業(yè)標準)。自動結構識別、自動校準功能提高了工藝速度,同時降低了廢品率。

高質量的光學和曝光系統(tǒng)、的校準技術,使 MA/BA 4 代專業(yè)版系列成為開辟新天地的理想工具。它具有各種微米、納米結構復形壓印技術作為支持。而且,改裝非常簡便,晶圓與晶圓的對準精度非常高,熔接鍵合簡單,基板表面等離子處理準備妥當。

在光刻工藝中,只需對準器件晶圓同側的結構(例如再布線層、微凸點 等),用頂部對準功能將掩模位置標記對準晶圓位置標記。 根據襯底的特性,這可以用存儲的晶圓位置數據或者用兩個現(xiàn)場照片 、SUSS MicroTec 開發(fā)的DirectAlign™ 直接對準技術實現(xiàn)。

我們的客戶可以從中得到以下好處

  • 掩模對準器的對準精度
  • 清晰、強大的圖像識別功能,即使在對比度不理想的情況下


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