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提高晶圓表面潔凈度：在半導體晶圓生產制造過程中，晶圓清洗后必須全部干燥，否則晶圓表面會氧化，形成污染，影響芯片成品率。真空干燥技術通過降低環境壓力，減少材料表面的蒸發溫度，實現快速干燥，同時減少材料氧化的可能性。
保證產品質量：真空干燥箱利用抽真空技術，避免了傳統干燥技術可能造成的晶圓表面沾污和邊緣損傷，提高了干燥效率和產品良品率。
HMDS真空烘箱的應用：在半導體工藝中，HMDS真空烘箱通過在硅片表面均勻涂布一層HMDS，降低接觸角，減少光刻膠用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
去除水分和其他污染物：真空干燥箱在科研和工業領域都有廣泛的應用，特別是在材料研發、制藥化工、電子行業等，可以去除元件表面的水分和其他污染物，提高元件的質量和穩定性。
無損傷、低溫度、高效率：與傳統的干燥技術相比，真空干燥因其無損傷、低溫度、高效率等優點，在半導體材料的處理中占有重要地位。
EUV光刻工藝中的真空應用：EUV（極紫外光刻）必須在真空條件下操作，因為極紫外光極易被介質吸收，在空氣中容易損耗，只有真空才能大程度保證光源能量不被損失。
真空干燥箱的技術指標：真空干燥箱的關鍵組成部分是真空系統，它包括真空泵、閥門和控制系統。為了在干燥過程中提供恒定的溫度，真空干燥箱配備了高效的加熱系統。
HMDS預處理真空烘箱：HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
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