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萊特萊德(北京)純水設備技術股份有限公司

半導體超純水制備工藝

時間:2021-10-12閱讀:620

  超純水是什么水?

  超純水是一種高度純凈的水,它是普通的水去除掉礦物質、微粒、細菌、微生物和溶解氣體后得到的一種水。它也被稱為“去離子水",意味著離子成分已被*去除。

  生產半導體需經過8個主要流程。超純水主要用于半導體制造過程中一些工藝前后的清洗操作。比如蝕刻工藝后,對晶圓進行切割,并使用超純水清洗殘留的碎片;或者,在離子注入工藝后,清洗殘留離子。另外,超純水也用于晶圓拋光或晶圓切割。

  超純水在半導體工藝中的作用是什么?

  處理納米級超精細工藝的半導體時,如果在各種工藝前后,殘留某個小顆粒,便會引起錯誤。因此,在各種工藝前后使用超純水清洗晶圓,可確保清潔度,從而提升半導體生產率(產量)。

  超純水是如何制取的?

  傳統的超純水制取工藝是采用陰陽樹脂交換設備,該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟,采用反滲透工藝,或是采用反滲透后面再經過EDI及拋光混床工藝來制取超純水,出水電導率可達18.2MΩ,滿足了芯片行業的用水需求。

  超純水設備能連續穩定地制備出高質量的超純水,不會因樹脂再生而停止運行。設備的結構設計比較緊湊,占地面積很小,可以為企業節省大量空間。設備出廠前需要進行檢驗,設備故障概率小,日常維護和維修操作非常簡單。


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