活性氧離子除臭設備 HLZ-AOE-II

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更新時間：2020-03-22 14:04:39瀏覽次數：690次

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產品簡介

加工定制	是

活性氧離子除臭設備 HLZ-AOE-II：凈化效率：在2～10mg／m3濃度范圍內，H2S去除率大于90％，氨氣去除率大于90％；在1～2mg／m3濃度范圍內，甲苯去除率大于85％，苯去除率大于85％；在1h范圍內，細菌去除率達到90％以上。

詳細介紹

活性氧離子除臭設備 HLZ-AOE-II原理
通過前沿陡峭、脈寬窄（納秒級）的高壓脈沖電暈放電，在常溫常壓下獲得非平衡等離子體，即產生大量高能電子、02、02-、02 、O、O2H等活性粒子（稱其為“活性氧”），對有機物分子進行氧化降解反應，使污染物zui終轉化為無害物。
活性氧（AOE）技術利用上述原理，產生高密度的高能活性氧（AO），迅速與有機廢氣和惡臭中的污染物進行碰撞、激活并直接破壞污染物，發生一系列鏈式反應，將污染物降解成二氧化碳和水以及其他小分子。
活性氧離子除臭設備 HLZ-AOE-II特點
1．高穩定性、長壽命納米催化觸媒材料和納米波長電光源的研制；
2．材料和加工工藝的確定；
3．PIC控制系統的反饋設計，廢氣濃度和等離子體放電參數的算法；
4．反應室結構的優化設計，脈沖電源與反應器的匹配，整機結構和工藝參數的匹配。典型規模惡臭氣體處理風量5500m3／h

活性氧凈化除臭設備適用處理的氣體有
有機污染物；“三苯”：苯、甲苯、二甲苯；
其他有機溶劑：甲醛、丙酮、酒精、以及其他醇、醛、酮、酚類等；
空氣污染物：煙味、二氧化硫、煤氣、福爾馬林、細菌；
各類惡臭物質：甲硫醇、硫化氫、氨、甲酸、乙酸及有機胺

凈化效率：在2～10mg／m3濃度范圍內，H2S去除率大于90％，氨氣去除率大于90％；在1～2mg／m3濃度范圍內，甲苯去除率大于85％，苯去除率大于85％；在1h范圍內，細菌去除率達到90％以上。