EDI超純水設(shè)備由于產(chǎn)水電阻率較高，通常是用在電子行業(yè)用作電路板、顯示屏等的清洗，也因為這些行業(yè)的特殊性，對于EDI超純水設(shè)備來說產(chǎn)水水質(zhì)要達到要求，設(shè)備的各項指標(biāo)也非常嚴(yán)格，尤其是設(shè)備進水質(zhì)量要求非常嚴(yán)格。影響進水質(zhì)量的因素有很多，本文下面將就進水質(zhì)量影響因素方面知識做詳細說明。

　　首先，要說明一下，這里說到的進水質(zhì)量指的是EDI模塊的進水質(zhì)量。超純水設(shè)備進水電導(dǎo)率是影響其進水質(zhì)量的重要因素，如果想要EDI模塊有一個優(yōu)質(zhì)的進水，必須確保設(shè)備的預(yù)處理出水的電導(dǎo)率小于40μs/cm，只有達到了電導(dǎo)率小于40μs/cm，進水能夠保障對雜質(zhì)去除效果。模塊進水中不能含有過多的二氧化碳，所以設(shè)備進水必須盡可能的去除水中的二氧化碳，去除二氧化碳的方法主要是在預(yù)處理時候調(diào)節(jié)酸堿值。

　    EDI超純水設(shè)備對進水的硬度也有著一定的要求，硬度控制非常簡單，在上面說去除二氧化碳的同時進行進水軟化處理便可，當(dāng)模塊進水的含鹽量超出一定范圍的時候，可以結(jié)合除鹽增加一級反滲透系統(tǒng)或者是納濾系統(tǒng)。

　　 EDI超純水設(shè)備進水的TOC含量也不能超過其規(guī)定范圍，TOC指的是水中有機物的總體含量，對TOC的處理也可以采用增加一級反滲透系統(tǒng)來處理。除了上述因素以外，進水的渾濁度等指數(shù)是基本要求因素。