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      UV光催化設備工藝原理

      閱讀:2585發布時間:2021-3-9

      工藝原理:
      通過采用紫外線,破壞有機廢氣分子的化學鍵,使之裂解形成游離狀態的原子或基團(C*、H*、O*等);同時通過裂解混合空氣中的氧氣,使之形成游離的氧原子并結合生成臭氧:UV+O2→O-+O*(活性氧)  O+O2→O3(臭氧)。具有強氧化性的臭氧(O3)與有機廢氣分子被裂解生成的原子發生氧化反應,形成H2O和CO2。

      凈化效果與廢氣分子的鍵能、廢氣濃度以及含氧量有關。整個凈化過程無需添加任何化學助劑或者特殊限制條件。從實際情況來看,UV燈波長的選擇以及廢氣在設備內的合理停留時間是影響UV光氧化設備去除效率的主要影響因素。 


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