RELCO CR300在線濃度儀在濕電子化學(xué)品半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用
一、核心技術(shù)適配性
臨界角折光原理?
基于光學(xué)折射率檢測，實時測量濕電子化學(xué)品（如顯影液、蝕刻液）的濃度，精度達(dá) ?±0.1%?，覆蓋 ?0.00-90.00%? 的寬范圍測量需求，適配半導(dǎo)體工藝中不同化學(xué)品的配比要求。
內(nèi)置溫度補償功能（10-140℃），消除設(shè)備運行或環(huán)境溫度波動對測量結(jié)果的影響，確保高溫反應(yīng)釜或低溫存儲場景下的數(shù)據(jù)可靠性。
工業(yè)級數(shù)據(jù)安全?
采用 ?AES-128加密? 與 ?CRC校驗? 技術(shù)，保障濃度數(shù)據(jù)傳輸安全性，符合半導(dǎo)體行業(yè)對工藝參數(shù)保密性的嚴(yán)格要求。
二、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)應(yīng)用場景
濕電子化學(xué)品濃度控制?
部署于光刻膠稀釋系統(tǒng)或清洗液循環(huán)管道，實時監(jiān)控 ?顯影液、剝離液、氫氟酸? 等關(guān)鍵化學(xué)品的濃度，確保工藝穩(wěn)定性與良品率。
聯(lián)動自動補液裝置，動態(tài)調(diào)整濃度偏差（如顯影液濃度誤差控制在±0.2%以內(nèi)），減少因配比誤差導(dǎo)致的晶圓缺陷。
超純水系統(tǒng)監(jiān)控?
集成至超純水制備環(huán)節(jié)，檢測微量化學(xué)添加劑（如氨水、異丙醇）的殘余濃度，輔助維持超純水的電導(dǎo)率與雜質(zhì)指標(biāo)達(dá)標(biāo)。
三、行業(yè)適配優(yōu)勢
耐腐蝕材質(zhì)?：傳感器采用 ?PFA+Sapphire，耐受氫氟酸、硫酸等強腐蝕性化學(xué)品的長期侵蝕。
抗干擾設(shè)計?：全屏蔽結(jié)構(gòu)應(yīng)對半導(dǎo)體車間的高電磁干擾環(huán)境，長期穩(wěn)定性達(dá) ?±0.2%/年?。
非侵入式安裝?：無需切割管道，避免污染敏感化學(xué)品，適配潔凈車間的高衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)。
四、典型案例參考
某12英寸晶圓廠?：在光刻膠稀釋產(chǎn)線部署CR300，顯影液濃度波動降低至±0.15%，光刻線寬均勻性提升8%。
封裝基板電鍍產(chǎn)線?：通過CR300動態(tài)調(diào)節(jié)電鍍液添加劑濃度，金屬沉積均勻性提高10%，減少微孔缺陷。
（注：具體配置需結(jié)合化學(xué)品類型、工藝溫度等參數(shù)，建議參考廠商技術(shù)文檔。）
