超凈化和超純水乃至超超純水的概念是隨著半導體產業的發展出來的。現有的純水的概念基本上是在水溶液中的電解質為對象。因此,電傳導性檢測中心。,除此以外的水中不溶解分散的有機物,生菌,微粒其他對象。半導體產業中被要求超純的水時,其最終目標是設想的100 %理論純水。但是,這種純水只是來自純理論的東西,實際上是不可能實現，這是理論制造純水本身就有困難,即使能制造出，生產設備的附著物和材料的溶出等產生的污染,使純水不能保持純度，因此,現實中能夠得到純水的水平是的純水理論無限接近超純水乃至超超純水。主要使用并在半導體、液晶等電子零件的清洗水”,功能性化學品(半導體制造用藥品稀釋水等)也被使用。

　　半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準，下面具體介紹下半導體超純水設備。

　　半導體超純水設備水質標準：

　　半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。

　　半導體超純水設備制備工藝：

　　1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝，優點：水質好，技術成熟，缺點：需要酸堿再生，需要廢水處理設備)

　　2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→UF→用水點(≥18MΩ.CM)(膜工藝,優點：設備操作簡單、維護方便，不需要再生用藥劑，缺點：對于大水量系統，成本、空間沒有優勢)

　　3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(案例類型)

　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(案例類型)

　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

　　半導體超純水設備的應用領域：

　　電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。

　　電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水。

　　黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

　　生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

　　晶體管生產中純水主要用于清洗硅片。

　　集成電路生產中高純水清洗硅片。

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

　　半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。

　　高品質顯像管、螢光粉生產。

　　汽車、家電表面拋光處理。