SU-8光刻臺式工作站涵蓋您在實驗室加工微流體模具所需要的一切組件，即使沒有超凈間，憑借該工作站，您也可以加工出來具有與超凈間相同的分辨率的模具。SU-8模具工作站可以縮短芯片加工的總時間。

SU-8模具加工站是一個交鑰匙的產(chǎn)品，wu需購買任何其他設(shè)備。基本上僅需要一個化學通風廚和少量的工作空間。我們也可以根據(jù)您實驗室內(nèi)現(xiàn)有的設(shè)備來調(diào)整報價。

優(yōu)勢&特點：
（1）為易用性設(shè)計，達到與超凈室相同的圖案分辨率
（2）易于通過面板或PC進行操作編程
（3）能夠設(shè)置多種加速度和速度的復雜序列
（4）wu堵塞，延長使用壽命
（5）低振動，轉(zhuǎn)速高達12000 rpm
（6）提供晶圓對中工具
（7）即使沒有微流控加工的初步知識，也可以熟練的加工模具
 

（3）可編程UV燈系統(tǒng)

包括化學藥品（SU-8，SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等）和實驗室配件（微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒、等），以便為您提供完整的套件。 

可編程旋涂機：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

該旋涂機結(jié)構(gòu)緊湊，并且具有可編程功能。
它適用于直徑?150 mm的晶圓和5” × 5”（127 mm × 127 mm）的基板。
此旋涂機經(jīng)過微調(diào)，可加工可控和可重復的SU-8光致抗蝕劑層。

其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設(shè)備實現(xiàn)真正的移動。該旋涂機已廣泛應(yīng)用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進行動態(tài)SU-8涂覆。通過藍牙輕松連接到您的PC，您可以保存并命名您的實驗配方。

主要優(yōu)勢：
（1）為易用性設(shè)計
（2）易于通過操作面板或PC進行編程
（3）能夠設(shè)置多種加速度和速度的復雜序列
（4）wu堵塞，延長使用壽命
（5）低振動
（6）轉(zhuǎn)速高達12000 rpm
（7）提供晶圓對中工具

可編程數(shù)碼電熱板：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

確保準確、均勻且穩(wěn)定的溫度設(shè)定點。該數(shù)字式熱板設(shè)備可設(shè)置溫度斜坡以進行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松，這些控件可以實現(xiàn)光刻過程的自動化。

可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠?qū)挼膮^(qū)域，溫度均勻，可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內(nèi)部的機械應(yīng)力。可編程工具可進行長時間的光刻膠烘烤，而wu需停留在設(shè)備的面。

主要優(yōu)勢：
（1）加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
（2）4英寸晶圓的高溫均勻性
（3）微處理器顯示屏保持溫度恒定
（4）小溫度超調(diào)
（5）自動計時器
（6）光滑的鋁板，易于清潔光刻膠

可編程UV燈系統(tǒng)：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

du特的UV LED曝光和遮罩系統(tǒng)（可選），具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統(tǒng)，能夠?qū)χ睆酱鬄?英寸的晶圓表面積進行曝光。該自動UV曝光系統(tǒng)與硬（物理）或軟（接近）掩膜觸點兼容，并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。

該UV曝光系統(tǒng)具有2μm的分辨率，特別適合軟光刻應(yīng)用。閃光曝光可以減少光刻膠的內(nèi)部機械應(yīng)力。其體積小巧，可將其安裝在所需的任何位置，尤其是在潔凈室之外。

主要優(yōu)勢：
（1）晶圓表面上方的wan美單色曝光（帶寬低于10 nm）
（2）冷紫外線
（3）光線發(fā)散角＜2°
（4）強大的功率密度
（5）LED使用壽命長：超過1萬小時，相當于8-10年的使用時間
（6）用戶友好的觸摸屏界面，可進行曝光周期編程
（7）wu需預熱時間
（8）直觀的UV光源強度控制
（9）自動化晶圓加載和卸載系統(tǒng)
（10）可與玻璃和塑料光罩一起使用
（11）在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
（12）集成紫外線儀表

更多內(nèi)容：
自動匹配您實驗室現(xiàn)有設(shè)備的報價！
由于每個實驗室都是不同的，因此，每個研究都是du特的，所以我們會根據(jù)實際需求盡可能地調(diào)整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設(shè)備，從而增加或刪除設(shè)備、配件、化學品等等。