光催化氧化除臭設(shè)備廠家供應(yīng)
無需預(yù)處理：工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。 優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。
光催化氧化除臭設(shè)備廠家供應(yīng)
1、uv光解除臭設(shè)備集氣安裝基于空氣動(dòng)力學(xué)原理,取舍合理的吸風(fēng)口外形和集風(fēng)地位,使空氣的氣流進(jìn)入凈化系統(tǒng)。
2、抽風(fēng)機(jī)風(fēng)機(jī)采用低能耗、低噪音風(fēng)機(jī),提供廢氣排放及克服凈化裝置的阻力。
3、凈化裝置部分粗過濾采用高性能過濾材料,阻力小。uv光解除臭設(shè)備對(duì)廢氣進(jìn)行粗過濾,可去除廢氣中的懸浮顆粒和小霧滴。濾網(wǎng)強(qiáng)度好、耐腐蝕、清洗方便、清洗后可重復(fù)使用、過濾阻力低。
4、寬譜納米光催化裝置為凈化uv光解除臭設(shè)備的主要全體,采納寬譜、化合納米光催化劑。
應(yīng)用領(lǐng)域
光解氧化除臭設(shè)備可廣泛用作制藥廠除臭設(shè)備、橡膠廠除臭設(shè)備、塑料加工廠除臭設(shè)備、污水處理廠除臭設(shè)備、垃圾處理場(chǎng)站除臭設(shè)備、食品廠除臭設(shè)備、卷煙廠除臭設(shè)備、化工罐區(qū)除臭設(shè)備。
特點(diǎn)
1、光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體*氧化成無毒無害的物質(zhì)，適合處理高濃度、氣量大、穩(wěn)定性強(qiáng)的有毒有害氣體。
2、有效凈化*：
通過光催化氧化可直接將空氣中的廢臭氣體*氧化成無毒無害的物質(zhì)，不帶任何二次污染。
3、綠色能源：
光催化氧化利用人工紫外線燈管產(chǎn)生的真空波紫外光作為能源來活化光催化劑，驅(qū)動(dòng)氧化—還原反應(yīng)，而且光催化劑在反應(yīng)過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效地降解有毒有害廢臭氣體成為光催化節(jié)約能源的zui大特點(diǎn)。
