DH-350 PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備

本設備由我公司和*材料物理重點實驗室聯合研制，設備由沉積室、渦

輪分子泵抽氣系統、上下電極、氣路系統、射頻電源和溫控系統以及設備控制系統等。

　　主要用于制備氧化鋅納米線陣、太陽能薄膜電池、SiO2鈍化膜、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC等介電、半導體及金屬膜等。

TKZM-14智能脈沖控制儀TKZM-16，DH-350 PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備主要技術參數：

◆沉積室：Φ350mm×H400mm,立式前開門結構，旁抽氣系統，腔體水冷；

◆TKZM-14智能脈沖控制儀TKZM-16，DH-350 PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備基片臺尺寸：Φ100mm，旋轉加熱，室溫至600℃可調可控，溫差≤3℃；

◆基片臺運動：轉速0～20RPM/min、磁流體密封；

◆電源：射頻電源500W，13.560MHZ；配自動匹配器；

◆真空系統：分子泵高真空系統，從大氣抽到10-3Pa小于或等于20分鐘；

◆進氣系統：四路質量流量計配混氣室；

◆極限真空：6.7×10-5Pa；高斯計特斯拉計

◆控制系統：手動控制抽真空；

◆電源電壓：AC 380V 50Hz；

◆報警及保護：對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施。

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